< 이전화면

고출력 레이저 다축 표면처리 시스템

장비명
고출력 레이저 다축 표면처리 시스템
모델명
고출력 레이저 다축 표면처리 시스템
제조사
이노6(Korea)
제조국가
장비위치
3D융합기술지원센터(본관)
첨부파일
-
장비설명
- 1kW급 펄스(나노초) 레이저와 다축(5축) 가공 스테이지 연동을 통한 금형, 정밀기계부품, 자동차부품 및 난삭성 소재기반 부품들의 열처리, 레이저 연마, 크리닝 등 고품질 레이저 표면처리 지원 가능 장비
- 레이저,광학 스캐너,5축 가공 스테이지를 활용한 3차원 기반 고품질 레이저 프로세싱 지원 장비
규격
1. Laser
1) Laser type : Nanosecond laser
2) Average power : 1kW 이상
3) Wavelength : 1030nm
4) Pulse Duration : 30ns
5) Pulse Energy : 100mJ
6) Max. repetition rate : 50kHz
2. 5-axis stage
1) Processing area : 250mm x 250mm
2) Linear scale : ± 15㎛
3) Repea
활용용도
-

장비 이용 시간 선택

01. 날짜선택

  • 예약있음

02. 시간선택

03. 선택확인

선택된 장비 : 고출력 레이저 다축 표면처리 시스템

시작일 :
미정
종료일 :
미정


  • 우수사례집
  • IACT 브로셔
  • 오픈랩 우수사례집