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고출력 고반복률 펨토초 레이저

장비명
고출력 고반복률 펨토초 레이저
모델명
고출력 고반복률 펨토초 레이저
제조사
AMPHOS(Germany)
제조국가
장비위치
3D융합기술지원센터(본관)
첨부파일
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장비설명
본 장비는 분말, 벌크 및 박막 시료에 대한 정성/정량적 분석을 위한 장비이며, 일반 분말, 박막, 결정 구조적 특성, 구조정보 분석과 같은 여러 가지 어플리케이션으로 활용 가능함
규격
Wavelength : 1,030 nm
Pulse time duration : 900 fs ~ 10 ps
Repetition rate : 400 kHz ~ 1 MHz
Beam quality : M2<1.5
Average output power: >200 W
활용용도
높은 펄스에너지 및 펄스 반복률을 가진 극초단 펄스레이저
응용 기초 연구 및 제품의 초기 양산화 기술 개발

장비 이용 시간 선택

01. 날짜선택

  • 예약있음

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03. 선택확인

선택된 장비 : 고출력 고반복률 펨토초 레이저

시작일 :
미정
종료일 :
미정


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